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光氧催化設備清洗流程

   光催化氧化设备是一种应用非常广泛的净化设备,在工业上的五月天堂网也是非常的重要,为了维持设备使用期限,我们需要定期对设备进行清理维护工作,下面就给大家介绍 一下设备清洗的流程:
  一、清洗的流程:
  1、切斷電源,把檢修門打開。
  2、拿出需要清洗的設備在燒堿水中浸泡半個小時之後,再用清水徹底的沖洗趕緊。
  3、用自然的方法幹燥,確保設備幹燥了就可以放回光解設備裏了,這就完成了一次簡單的清洗工作。
  二、清洗周期:
  一般都爲3個月左右,清洗的周期越短臭氣處理的效率就會越高,如果長時間不清理,還會有很多的安全隱患。
  三、清洗的洗滌劑:
  就是普通的熱水喝燒堿就可以完成,水溫控制在50℃爲好,因爲這個水溫燒堿的處理能力是較佳水溫,把要清洗的設備放在洗滌槽中清洗就可以了。
  四、正確清洗能夠保證減少內部零件出現問題的可能性並且提高使用效率,所以我們在實際操作時一定要嚴格按照正確的清洗流程和步驟進行清洗,從而保證清洗效果。
  五、當設備安裝的時候廠家都會爲企業的做清洗以及維護培訓,因爲清洗的過程不難,所以一般的人都可以操作,這也是光氧催化設備獲得廣泛應用的因素之一。
  光催化氧化設備采用獨特的工作方式和良好的淨化效率被廣泛使用在工業生産中,但是長久的使用會給設備帶來很多的灰塵和麻煩,爲此我們大家要定期的進行清洗,並且知道具體的清洗流程。
  小編:mxy